光电技术研究所 胡松 男 博导
作者：科大科院考研网 发表时间：2019-12-06 来源：研招办
科院考研推荐链接：
招生信息
招生专业
080402-测试计量技术及仪器
080401-精密仪器及机械
080401-精密仪器及机械
招生方向
微纳光刻
微细加工装备整机及关键技术
测试仪器
微细加工装备整机及关键技术
测试仪器
教育背景
学历
中科院光电所 19990901--20060701 研究生毕业
学位
中科院光电所 19990901--20060701 工学博士学位
工作经历
工作简历
2002-01--今 中国科学院光电技术研究所 研究员
1999-01--2001-12 中国科学院光电技术研究所 副研究员
1993-01--1998-12 中国科学院光电技术研究所 助理研究员
1988-08--1992-12 中国科学院光电技术研究所 研究实习员
1999-01--2001-12 中国科学院光电技术研究所 副研究员
1993-01--1998-12 中国科学院光电技术研究所 助理研究员
1988-08--1992-12 中国科学院光电技术研究所 研究实习员
社会兼职
教授课程
光学投影曝光微纳加工技术、 微细加工光刻技术
专利与奖励
奖励信息
（1） 四川省第七届劳模，省级，2015
（2） 国务院政府津贴，国家级，2015
（3） 全国半导体设备和材料标准化技术委员会，标准化工作优秀个人，其他级，2014
（4） 中国科学院成都分院优秀导师，研究所（学校）级，2012
（5） 中国科学院优秀共产党员，研究所（学校）级，2011
（6） 四川省有突出贡献优秀专家，省级，2010
（2） 国务院政府津贴，国家级，2015
（3） 全国半导体设备和材料标准化技术委员会，标准化工作优秀个人，其他级，2014
（4） 中国科学院成都分院优秀导师，研究所（学校）级，2012
（5） 中国科学院优秀共产党员，研究所（学校）级，2011
（6） 四川省有突出贡献优秀专家，省级，2010
专利成果
（1） 一种基于光栅泰伯效应的检焦方法，发明，2014，第2作者，专利号：201410500277.0
（2） 一种基于哈特曼波前检测原理的检焦方法，发明，2014，第2作者，专利号： 201410479415.1
（3） 一种基于外差干涉和二次衍射效应的光栅位移测量系统，发明，2015，第2作者，专利号：201510100566.6
（4） 一种透镜热变形对光学系统成像结果影响的分析方法，发明，2015，第3作者，专利号：201510002637.9
（5） 一种有限元仿真分析中的轴承简化方法，发明，2014，第3作者，专利号：201410539336.5
（6） 一种单倍率对称式投影曝光物镜，发明，2014，第2作者，专利号：201410479916.X
（7） 一种掩模与基底六自由度对准装置，发明，2014，第2作者，专利号：201410607056.3
（8） 一种应用于投影光刻机的大视场投影曝光物镜，发明，2014，第2作者，专利号： 201410477962.6
（9） 一种叠栅条纹相位解析的纳米检焦方法，发明，2014，第2作者，专利号：201410308999.6
（10） 用于生物芯片扫描仪的二维扫描方法，发明，2015，第2作者，专利号： 201410217312.8
（11） 一种复合光栅纳米光刻自动对准系统，发明，2015，第3作者，专利号：201510100540.1
（12） 一种光刻机的接近式间隙曝光工件台，发明，2015，第2作者，专利号：201510068150.0
（13） 一种用于接近式纳米光刻二维光栅自动对准系统，发明，2015，第3作者，专利号：201510001996.2
（14） 一种基于二维双频光栅剪切干涉的纳米级检焦方法，发明，2015，第2作者，专利号： 201410479923.X
（15） 一种径向零附加力转台，发明，2014，第2作者，专利号：201410273266.3
（16） 一种气浮导轨 ，发明，2014，第2作者，专利号：201410153183.0
（2） 一种基于哈特曼波前检测原理的检焦方法，发明，2014，第2作者，专利号： 201410479415.1
（3） 一种基于外差干涉和二次衍射效应的光栅位移测量系统，发明，2015，第2作者，专利号：201510100566.6
（4） 一种透镜热变形对光学系统成像结果影响的分析方法，发明，2015，第3作者，专利号：201510002637.9
（5） 一种有限元仿真分析中的轴承简化方法，发明，2014，第3作者，专利号：201410539336.5
（6） 一种单倍率对称式投影曝光物镜，发明，2014，第2作者，专利号：201410479916.X
（7） 一种掩模与基底六自由度对准装置，发明，2014，第2作者，专利号：201410607056.3
（8） 一种应用于投影光刻机的大视场投影曝光物镜，发明，2014，第2作者，专利号： 201410477962.6
（9） 一种叠栅条纹相位解析的纳米检焦方法，发明，2014，第2作者，专利号：201410308999.6
（10） 用于生物芯片扫描仪的二维扫描方法，发明，2015，第2作者，专利号： 201410217312.8
（11） 一种复合光栅纳米光刻自动对准系统，发明，2015，第3作者，专利号：201510100540.1
（12） 一种光刻机的接近式间隙曝光工件台，发明，2015，第2作者，专利号：201510068150.0
（13） 一种用于接近式纳米光刻二维光栅自动对准系统，发明，2015，第3作者，专利号：201510001996.2
（14） 一种基于二维双频光栅剪切干涉的纳米级检焦方法，发明，2015，第2作者，专利号： 201410479923.X
（15） 一种径向零附加力转台，发明，2014，第2作者，专利号：201410273266.3
（16） 一种气浮导轨 ，发明，2014，第2作者，专利号：201410153183.0
出版信息
发表论文
（1） Interferometric Scheme for High-Sensitivity Coaxial Focusing in Projection Lithography，IEEE Photonics Journal，2014，第2作者
（2） Focusing property of high numerical aperture photon sieves based on vector diffraction，OPTICS COMMUNICATIONS，2013，第2作者
（3） Influence of tilt moire fringe on alignment accuracy in proximity lithography，OPTICS AND LASERS IN ENGINEERING，2013，第2作者
（4） Four-quadrant gratings moire fringe alignment measurement in proximity lithography，OPTICS EXPRESS，2013，第2作者
（5） Theoretical model for manipulating light distribution in the time domain by using a spatially homogenous dynamic medium，JOURNAL OF THE OPTICAL SOCIETY OF AMERICA B-OPTICAL PHYSICS，2013，第2作者
（2） Focusing property of high numerical aperture photon sieves based on vector diffraction，OPTICS COMMUNICATIONS，2013，第2作者
（3） Influence of tilt moire fringe on alignment accuracy in proximity lithography，OPTICS AND LASERS IN ENGINEERING，2013，第2作者
（4） Four-quadrant gratings moire fringe alignment measurement in proximity lithography，OPTICS EXPRESS，2013，第2作者
（5） Theoretical model for manipulating light distribution in the time domain by using a spatially homogenous dynamic medium，JOURNAL OF THE OPTICAL SOCIETY OF AMERICA B-OPTICAL PHYSICS，2013，第2作者
发表著作
（1） 光学投影曝光微纳加工技术，Optical projection lithography micromachining technology，北京工业大学出版社，2015-04，第2作者
科研活动
科研项目
（1） 高分辨力微纳结构光刻及在线检测一体化设备研制及其产业化，主持，省级，2015-01--2016-12
（2） 大数值孔径光子筛成像的像差特性研究，主持，部委级，2013-01--2017-12
（3） 超分辨光刻装备研制，主持，国家级，2012-01--2015-12
（4） ArF曝光系统研制，参与，国家级，2009-04--2015-12
（5） 极紫外光刻原理实验装置机械与真空系统研制，主持，国家级，2009-01--2015-12
（2） 大数值孔径光子筛成像的像差特性研究，主持，部委级，2013-01--2017-12
（3） 超分辨光刻装备研制，主持，国家级，2012-01--2015-12
（4） ArF曝光系统研制，参与，国家级，2009-04--2015-12
（5） 极紫外光刻原理实验装置机械与真空系统研制，主持，国家级，2009-01--2015-12
参与会议
合作情况
项目协作单位
指导学生
已指导学生
严伟 博士研究生 081002-信号与信息处理
余勇 硕士研究生 080201-机械制造及其自动化
杨勇 博士研究生 080402-测试计量技术及仪器
蒋文波 博士研究生 080402-测试计量技术及仪器
周绍林 博士研究生 080402-测试计量技术及仪器
陈旺富 博士研究生 080300-光学工程
徐锋 博士研究生 080402-测试计量技术及仪器
李金龙 博士研究生 080402-测试计量技术及仪器
朱江平 博士研究生 080300-光学工程
李兰兰 博士研究生 080402-测试计量技术及仪器
何渝 博士研究生 080300-光学工程
邸成良 博士研究生 080402-测试计量技术及仪器
现指导学生
周毅 博士研究生 080300-光学工程
张满 博士研究生 080300-光学工程
王楠 博士研究生 080402-测试计量技术及仪器
王从政 博士研究生 080402-测试计量技术及仪器
姚靖威 硕士研究生 080300-光学工程
程依光 博士研究生 080300-光学工程
刘俊伯 博士研究生 080300-光学工程
谢仲业 硕士研究生 080401-精密仪器及机械
程文播 博士研究生 080300-光学工程
王佳舟 博士研究生 080300-光学工程
王建 博士研究生 080300-光学工程
田鹏 博士研究生 080402-测试计量技术及仪器
邓钦元 博士研究生 080402-测试计量技术及仪器
陈熙 博士研究生 080402-测试计量技术及仪器
