中国科学院 长春光学精密机械与物理研究所 导师金春水介绍
作者：科大科院考研网 发表时间：2019-12-15 来源：研招办
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金春水 男 博导 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
电子邮件： jincs@sklao.ac.cn
通信地址： 长春市东南湖大路3888号
邮政编码： 130033
研究领域
紫外-极紫外成像光学
紫外-极紫外光学薄膜技术
超高精度光学检测
招生信息
紫外-极紫外光学设计
紫外-极紫外光学薄膜
光学检测
紫外-极紫外光学薄膜
光学检测
招生专业
070207-光学
招生方向
光学设计，光学薄膜，光学检测
教育背景
2000-09--2003-06 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 博士学位
1987-09--1990-03 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 硕士学位
1983-09--1987-06 浙江大学 学士学位
1987-09--1990-03 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 硕士学位
1983-09--1987-06 浙江大学 学士学位
学位
1987年于浙江大学光学仪器工程学系获学士学位；
1990年于中国科学院长春光学精密机械与物理研究所获硕士学位；
2003年于中国科学院长春光学精密机械与物理研究所获博士学位。
1990年于中国科学院长春光学精密机械与物理研究所获硕士学位；
2003年于中国科学院长春光学精密机械与物理研究所获博士学位。
工作经历
1990-04--今 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
课题组简介
学科方向
金春水研究员为国家科技重大专项02专项总体专家组专家，应用光学国家重点实验室极紫外光刻光学技术（EUVL, Extreme Ultra-Violet Lithography）研究方向的学术带头人，该方向继承并发展了本室在短波光学领域的特色学科优势。以极紫外/软X射线多层膜技术为根基，辐射带动了极紫外光源、极紫外光学元件检测、极紫外光学系统集成等其他极紫外成像技术发展，历时十余年，形成了极紫外光学的应用技术基础。
极紫外光刻是极紫外光学的重要应用领域，工作波长为13.5nm，适用于特征尺寸为16nm及其以下数代超大规模集成电路光刻工艺。
学科组在02国家重大科技专项的牵引下（极紫外光刻关键技术研究项目，研究经费合计2.1亿），以突破制约我国极紫外光刻发展的核心光学技术为目标，系统开展了关键技术研究，内容涵盖超高精度光学元件检测技术、膜厚控制达原子量级的极紫外多层膜技术、光学元件无应力支撑技术及衍射极限极紫外光学系统设计集成等技术。
目前极紫外光刻各项单元关键技术得到了长足发展，为我国极紫外光刻机样机研制奠定了较为坚实的技术基础和人才基础。
极紫外光刻是极紫外光学的重要应用领域，工作波长为13.5nm，适用于特征尺寸为16nm及其以下数代超大规模集成电路光刻工艺。
学科组在02国家重大科技专项的牵引下（极紫外光刻关键技术研究项目，研究经费合计2.1亿），以突破制约我国极紫外光刻发展的核心光学技术为目标，系统开展了关键技术研究，内容涵盖超高精度光学元件检测技术、膜厚控制达原子量级的极紫外多层膜技术、光学元件无应力支撑技术及衍射极限极紫外光学系统设计集成等技术。
目前极紫外光刻各项单元关键技术得到了长足发展，为我国极紫外光刻机样机研制奠定了较为坚实的技术基础和人才基础。
专利与奖励
专利成果
（ 1 ） 双谱段电晕探测折反射全景光学系统, 发明, 2009, 第 1 作者, 专利号: 200910217900.0
（ 2 ） 193nmP光大角度减反射薄膜元件的制备方法 , 发明, 2015, 第 1 作者, 专利号: CN102928894B
（ 3 ） 一种非均匀折射率薄膜光学常数的测量方法 , 发明, 2013, 第 1 作者, 专利号: 201210520711.2
（ 4 ） 一种对移相干涉仪随机误差模态的评估方法, 发明, 2015, 第 3 作者, 专利号: 201210562736.9
（ 5 ） 大测试角度ArF激光偏振光学薄膜元件光谱测试装置 , 发明, 2013, 第 1 作者, 专利号: 201210532911.X
（ 6 ） 一种ArF激光光学薄膜角度散射测量装置 , 发明, 2013, 第 1 作者, 专利号: 201210520608.8
（ 7 ） 一种深紫外光学薄膜基底的处理方法, 发明, 2013, 第 1 作者, 专利号: 201210520610.5
（ 8 ） 一种基于能量守恒定律的光学系统分析设计方法, 发明, 2015, 第 3 作者, 专利号: 201310140570.6
（ 9 ） 低损耗深紫外多层膜的制备方法 , 发明, 2013, 第 1 作者, 专利号: 201210532888.4
（ 10 ） 深紫外氟化物薄膜元件污染物吸附能力的分析方法, 发明, 2014, 第 1 作者, 专利号: CN103018206B
（ 11 ） 环境稳定性深紫外光学薄膜及其制备方法 , 发明, 2012, 第 2 作者, 专利号: 201210142793.1
（ 12 ） 高复现性光学元件面形检测支撑装置, 发明, 2014, 第 5 作者, 专利号: CN103968796A
（ 13 ） 一种用于大数值孔径的极紫外光刻掩模结构, 发明, 2015, 第 3 作者, 专利号: CN104298068A
（ 14 ） 极紫外光刻系统中与杂散光有关的镜面加工误差分析方法, 发明, 2016, 第 3 作者, 专利号: CN104317168A
（ 15 ） 一种波长调谐相移点衍射干涉测量装置及其方法, 发明, 2013, 第 3 作者, 专利号: CN103398655A
（ 16 ） 一种基于光学系统失调量解算的光机结构稳定性评估方法, 发明, 2016, 第 3 作者, 专利号: CN103969034A
（ 17 ） 一种基于光学元件面形的计算机辅助装调模型的建立方法, 发明, 2014, 第 3 作者, 专利号: CN103984808A
（ 18 ） 一种提高了极紫外光谱纯度及抗氧化性的多层膜, 发明, 2015, 第 3 作者, 专利号: CN104297820A
（ 19 ） 一种提高了极紫外光谱纯度及抗氧化性的多层膜, 发明, 2015, 第 3 作者, 专利号: CN104297820A
（ 20 ） 一种能够提高光纤点衍射干涉仪检测范围的波面参考源, 发明, 2015, 第 1 作者, 专利号: CN104515466A
（ 21 ） 使用在光纤点衍射干涉仪波面参考源中的偏振控制方法, 发明, 2015, 第 1 作者, 专利号: CN104536146A
（ 22 ） 一种用于极紫外光刻的类临界照明系统, 发明, 2015, 第 3 作者, 专利号: CN104483816A
（ 23 ） 一种移相干涉检测振动抑制方法, 发明, 2015, 第 4 作者, 专利号: CN104534978A
（ 24 ） 元器件真空兼容性评估实验平台, 发明, 2015, 第 5 作者, 专利号: CN104635090A
（ 25 ） 一种用于点衍射干涉仪针孔对准的装置和方法, 发明, 2014, 第 4 作者, 专利号: CN102564301B
（ 26 ） 用于超高真空中实现转角精密传动的装置及其控制方法, 发明, 2013, 第 3 作者, 专利号: CN102393564B
（ 27 ） 一种深紫外光学薄膜处理装置, 发明, 2013, 第 2 作者, 专利号: CN102430547B
（ 28 ） ArF激光光学薄膜元件综合偏振测量装置及测量方法, 发明, 2013, 第 2 作者, 专利号: CN102435418B
（ 29 ） 辐照密度高均匀性的ArF激光薄膜元件损伤测试装置, 发明, 2013, 第 2 作者, 专利号: CN102393383B
（ 30 ） 一种用于EUV光刻系统的复眼反射镜制作方法, 发明, 2013, 第 1 作者, 专利号: CN102385082B
（ 31 ） 高精度光学元件装配装置的无应力装配方法, 发明, 2013, 第 5 作者, 专利号: CN102368113B
（ 32 ） 光学系统波像差标定装置及该装置测试误差的标定方法, 发明, 2012, 第 1 作者, 专利号: CN102261985B
（ 33 ） 可见光点衍射干涉仪中参考球面波偏差检测装置及方法, 发明, 2012, 第 2 作者, 专利号: CN102297725B
（ 34 ） 光学系统波像差检测装置, 发明, 2012, 第 1 作者, 专利号: CN102289152B
（ 35 ） 球面镜和平面镜面形误差的绝对检测方法, 发明, 2015, 第 3 作者, 专利号: CN104976964A
（ 36 ） 光纤点衍射干涉仪等光程位置调整方法, 发明, 2015, 第 1 作者, 专利号: CN104792424A
（ 37 ） 一种基于柔性片体的六自由度并联精密调整装置, 发明, 2015, 第 3 作者, 专利号: CN104793646A
（ 38 ） 光纤点衍射干涉仪光纤衍射参考波前偏差测量方法, 发明, 2015, 第 1 作者, 专利号: CN104748946A
（ 39 ） 具有半波带结构的极紫外光源收集镜的制作方法, 发明, 2015, 第 3 作者, 专利号: CN105022235A
（ 40 ） 光学薄膜及元件表面激光损伤的高灵敏快速在线探测方法, 发明, 2015, 第 2 作者, 专利号: CN105021627A
（ 41 ） 一种基于遗传算法的光刻衰减型掩模的优化方法, 发明, 2015, 第 2 作者, 专利号: CN105069194A
（ 42 ） 有限距成像系统垂轴放大率的测量方法, 发明, 2016, 第 1 作者, 专利号: CN105388000A
（ 43 ） 具有微结构和光谱纯化层的光源收集镜, 发明, 2016, 第 1 作者, 专利号: CN105446088A
（ 44 ） 基于遗传算法的极紫外波段光学常数反演方法, 发明, 2016, 第 3 作者, 专利号: CN105446087A
（ 45 ） 极紫外光刻物镜的掩模结构, 发明, 2016, 第 3 作者, 专利号: CN105446071A
（ 46 ） 具有抗溅射损伤和抗氧化性的高热稳定性极紫外多层膜, 发明, 2016, 第 3 作者, 专利号: CN105445823A
（ 47 ） 一种具有光谱纯化功能的角宽带极紫外多层膜, 发明, 2016, 第 3 作者, 专利号: CN105445822A
（ 48 ） 一种极紫外波段宽带Mo/Si多层膜的制备方法, 发明, 2016, 第 3 作者, 专利号: CN105445819A
（ 49 ） 基于极紫外光谱仪的气体吸收系数测量装置, 发明, 2016, 第 3 作者, 专利号: CN105445213A
（ 50 ） 高精度恒温控制装置及方法, 发明, 2016, 第 1 作者, 专利号: CN105468062A
（ 51 ） 高热稳定性极紫外多层膜, 发明, 2016, 第 3 作者, 专利号: CN105467472A
（ 52 ） 基于遗传算法的磁控溅射速率空间分布反演方法, 发明, 2016, 第 3 作者, 专利号: CN105608494A
（ 53 ） 基于遗传算法的磁控溅射调速曲线反演方法, 发明, 2016, 第 3 作者, 专利号: CN105608495A
（ 54 ） 一种具有光谱纯化功能的极紫外多层膜, 发明, 2016, 第 3 作者, 专利号: CN105572769A
（ 55 ） 基于外推法的痕量气体极紫外吸收系数测量方法, 发明, 2016, 第 3 作者, 专利号: CN105572068A
（ 56 ） 一种用于弹性发射加工的工具轮, 发明, 2016, 第 2 作者, 专利号: CN105563271A
（ 57 ） 一种离子束面形精修用工件定心定方位角装置, 发明, 2016, 第 2 作者, 专利号: CN105563270A
（ 58 ） 一种极紫外光学基底的清洁处理方法, 发明, 2016, 第 3 作者, 专利号: CN105583186A
（ 2 ） 193nmP光大角度减反射薄膜元件的制备方法 , 发明, 2015, 第 1 作者, 专利号: CN102928894B
（ 3 ） 一种非均匀折射率薄膜光学常数的测量方法 , 发明, 2013, 第 1 作者, 专利号: 201210520711.2
（ 4 ） 一种对移相干涉仪随机误差模态的评估方法, 发明, 2015, 第 3 作者, 专利号: 201210562736.9
（ 5 ） 大测试角度ArF激光偏振光学薄膜元件光谱测试装置 , 发明, 2013, 第 1 作者, 专利号: 201210532911.X
（ 6 ） 一种ArF激光光学薄膜角度散射测量装置 , 发明, 2013, 第 1 作者, 专利号: 201210520608.8
（ 7 ） 一种深紫外光学薄膜基底的处理方法, 发明, 2013, 第 1 作者, 专利号: 201210520610.5
（ 8 ） 一种基于能量守恒定律的光学系统分析设计方法, 发明, 2015, 第 3 作者, 专利号: 201310140570.6
（ 9 ） 低损耗深紫外多层膜的制备方法 , 发明, 2013, 第 1 作者, 专利号: 201210532888.4
（ 10 ） 深紫外氟化物薄膜元件污染物吸附能力的分析方法, 发明, 2014, 第 1 作者, 专利号: CN103018206B
（ 11 ） 环境稳定性深紫外光学薄膜及其制备方法 , 发明, 2012, 第 2 作者, 专利号: 201210142793.1
（ 12 ） 高复现性光学元件面形检测支撑装置, 发明, 2014, 第 5 作者, 专利号: CN103968796A
（ 13 ） 一种用于大数值孔径的极紫外光刻掩模结构, 发明, 2015, 第 3 作者, 专利号: CN104298068A
（ 14 ） 极紫外光刻系统中与杂散光有关的镜面加工误差分析方法, 发明, 2016, 第 3 作者, 专利号: CN104317168A
（ 15 ） 一种波长调谐相移点衍射干涉测量装置及其方法, 发明, 2013, 第 3 作者, 专利号: CN103398655A
（ 16 ） 一种基于光学系统失调量解算的光机结构稳定性评估方法, 发明, 2016, 第 3 作者, 专利号: CN103969034A
（ 17 ） 一种基于光学元件面形的计算机辅助装调模型的建立方法, 发明, 2014, 第 3 作者, 专利号: CN103984808A
（ 18 ） 一种提高了极紫外光谱纯度及抗氧化性的多层膜, 发明, 2015, 第 3 作者, 专利号: CN104297820A
（ 19 ） 一种提高了极紫外光谱纯度及抗氧化性的多层膜, 发明, 2015, 第 3 作者, 专利号: CN104297820A
（ 20 ） 一种能够提高光纤点衍射干涉仪检测范围的波面参考源, 发明, 2015, 第 1 作者, 专利号: CN104515466A
（ 21 ） 使用在光纤点衍射干涉仪波面参考源中的偏振控制方法, 发明, 2015, 第 1 作者, 专利号: CN104536146A
（ 22 ） 一种用于极紫外光刻的类临界照明系统, 发明, 2015, 第 3 作者, 专利号: CN104483816A
（ 23 ） 一种移相干涉检测振动抑制方法, 发明, 2015, 第 4 作者, 专利号: CN104534978A
（ 24 ） 元器件真空兼容性评估实验平台, 发明, 2015, 第 5 作者, 专利号: CN104635090A
（ 25 ） 一种用于点衍射干涉仪针孔对准的装置和方法, 发明, 2014, 第 4 作者, 专利号: CN102564301B
（ 26 ） 用于超高真空中实现转角精密传动的装置及其控制方法, 发明, 2013, 第 3 作者, 专利号: CN102393564B
（ 27 ） 一种深紫外光学薄膜处理装置, 发明, 2013, 第 2 作者, 专利号: CN102430547B
（ 28 ） ArF激光光学薄膜元件综合偏振测量装置及测量方法, 发明, 2013, 第 2 作者, 专利号: CN102435418B
（ 29 ） 辐照密度高均匀性的ArF激光薄膜元件损伤测试装置, 发明, 2013, 第 2 作者, 专利号: CN102393383B
（ 30 ） 一种用于EUV光刻系统的复眼反射镜制作方法, 发明, 2013, 第 1 作者, 专利号: CN102385082B
（ 31 ） 高精度光学元件装配装置的无应力装配方法, 发明, 2013, 第 5 作者, 专利号: CN102368113B
（ 32 ） 光学系统波像差标定装置及该装置测试误差的标定方法, 发明, 2012, 第 1 作者, 专利号: CN102261985B
（ 33 ） 可见光点衍射干涉仪中参考球面波偏差检测装置及方法, 发明, 2012, 第 2 作者, 专利号: CN102297725B
（ 34 ） 光学系统波像差检测装置, 发明, 2012, 第 1 作者, 专利号: CN102289152B
（ 35 ） 球面镜和平面镜面形误差的绝对检测方法, 发明, 2015, 第 3 作者, 专利号: CN104976964A
（ 36 ） 光纤点衍射干涉仪等光程位置调整方法, 发明, 2015, 第 1 作者, 专利号: CN104792424A
（ 37 ） 一种基于柔性片体的六自由度并联精密调整装置, 发明, 2015, 第 3 作者, 专利号: CN104793646A
（ 38 ） 光纤点衍射干涉仪光纤衍射参考波前偏差测量方法, 发明, 2015, 第 1 作者, 专利号: CN104748946A
（ 39 ） 具有半波带结构的极紫外光源收集镜的制作方法, 发明, 2015, 第 3 作者, 专利号: CN105022235A
（ 40 ） 光学薄膜及元件表面激光损伤的高灵敏快速在线探测方法, 发明, 2015, 第 2 作者, 专利号: CN105021627A
（ 41 ） 一种基于遗传算法的光刻衰减型掩模的优化方法, 发明, 2015, 第 2 作者, 专利号: CN105069194A
（ 42 ） 有限距成像系统垂轴放大率的测量方法, 发明, 2016, 第 1 作者, 专利号: CN105388000A
（ 43 ） 具有微结构和光谱纯化层的光源收集镜, 发明, 2016, 第 1 作者, 专利号: CN105446088A
（ 44 ） 基于遗传算法的极紫外波段光学常数反演方法, 发明, 2016, 第 3 作者, 专利号: CN105446087A
（ 45 ） 极紫外光刻物镜的掩模结构, 发明, 2016, 第 3 作者, 专利号: CN105446071A
（ 46 ） 具有抗溅射损伤和抗氧化性的高热稳定性极紫外多层膜, 发明, 2016, 第 3 作者, 专利号: CN105445823A
（ 47 ） 一种具有光谱纯化功能的角宽带极紫外多层膜, 发明, 2016, 第 3 作者, 专利号: CN105445822A
（ 48 ） 一种极紫外波段宽带Mo/Si多层膜的制备方法, 发明, 2016, 第 3 作者, 专利号: CN105445819A
（ 49 ） 基于极紫外光谱仪的气体吸收系数测量装置, 发明, 2016, 第 3 作者, 专利号: CN105445213A
（ 50 ） 高精度恒温控制装置及方法, 发明, 2016, 第 1 作者, 专利号: CN105468062A
（ 51 ） 高热稳定性极紫外多层膜, 发明, 2016, 第 3 作者, 专利号: CN105467472A
（ 52 ） 基于遗传算法的磁控溅射速率空间分布反演方法, 发明, 2016, 第 3 作者, 专利号: CN105608494A
（ 53 ） 基于遗传算法的磁控溅射调速曲线反演方法, 发明, 2016, 第 3 作者, 专利号: CN105608495A
（ 54 ） 一种具有光谱纯化功能的极紫外多层膜, 发明, 2016, 第 3 作者, 专利号: CN105572769A
（ 55 ） 基于外推法的痕量气体极紫外吸收系数测量方法, 发明, 2016, 第 3 作者, 专利号: CN105572068A
（ 56 ） 一种用于弹性发射加工的工具轮, 发明, 2016, 第 2 作者, 专利号: CN105563271A
（ 57 ） 一种离子束面形精修用工件定心定方位角装置, 发明, 2016, 第 2 作者, 专利号: CN105563270A
（ 58 ） 一种极紫外光学基底的清洁处理方法, 发明, 2016, 第 3 作者, 专利号: CN105583186A
出版信息
发表论文
（1） 极紫外光刻照明系统宽带Mo/Si多层膜设计与制备, 中国激光, 2016, 第 3 作者
（2） Influence of substrate temperatures on the properties of GdF3 thin films with quarter-wave thickness in the ultraviolet region , Applied Optics, 2015, 第 2 作者
（3） 极紫外光刻物镜分组可视化界面设计优化, 光学学报, 2015, 第 3 作者
（4） 光纤相移点衍射干涉仪关键技术, 红外与激光工程, 2015, 第 2 作者
（5） 极紫外反射镜氧化物保护层的制备与表征, 光学学报, 2015, 通讯作者
（6） ArF 准分子激光对氟化物高反射薄膜的诱导损伤, 激光技术, 2014, 通讯作者
（7） 极紫外光辐照下表面碳沉积污染的计算模型, Simulation Model of Surface Carbon Contamination Under Extreme Unltraviolet Radiaition, 光学学报, 2014, 通讯作者
（8） A model for multilayer analysis in a coated extreme, Optics Communications, 2014, 通讯作者
（9） 极紫外光刻投影物镜中多层膜分析模型的建立及应用, 光学学报, 2014, 通讯作者
（10） 光纤点衍射干涉仪中球面参考源偏振控制系统的设计, 光学学报, 2014, 通讯作者
（11） Optimal design and fabrication method for antireflection coatings for P-polarized 193 nm laser beam at large angles of incidence (68°–74°), JOSA A, 2013, 通讯作者
（12） Fabrication antireflection (AR) coatings for P-polarized 193 nm laser light at an incidence angle of 74°Original Research Article, Optics Communications,, 2013, 通讯作者
（13） 193nm P偏振光大角度减反射膜的实现, Realization of Antireflection Coatings for 193nm P-Polarized Light at Large Angle, 中国激光, 2013, 第 2 作者
（14） 193 nm氟化物薄膜的激光诱导损伤 , Laser Induced Damage of Fluoride Coatings at 193 nm, 中国激光, 2013, 第 2 作者
（15） Analysis and Metrology of Reproducibility of High-Precision Optic Mount, Chinese Journal of Lasers, 2013, 通讯作者
（16） 照明物镜像差对远场衍射波前质量影响的严格矢量分析, 光学学报, 2012, 通讯作者
（17） 极紫外光刻离轴照明技术研究, 光学学报, 2012, 通讯作者
（18） 热蒸发紫外LaF3薄膜光学常数的表征, 中国激光, 2012, 通讯作者
（19） 点衍射干涉仪波前参考源标定算法的研究, 中国激光, 2012, 通讯作者
（20） 可见光移相点衍射干涉仪的测试误差分析, 红外与激光工程, 2012, 通讯作者
（21） 微小孔偏差对远场波前质量影响分析, 光学学报, 2011, 通讯作者
（22） Gain-Phase grating based on spatial modulation of active Raman gain in cold atoms, Physical Review A, 2011, 第 2 作者
（23） 基于掠入射X射线反射谱的mo/si多层膜扩散系数测量, 中国激光, 2011, 第 3 作者
（24） 离子束溅射制备“日盲”紫外透射滤光片, 光学精密工程, 2011, 第 2 作者
（25） 深紫外氧化物薄膜的光学特性, 中国激光, 2011, 通讯作者
（26） “日盲”紫外折反射全景光学系统设计, 光学精密工程, 2011, 第 3 作者
（27） 用于ArF准分子激光器的CaF2衬底性能的实验表征, 中国激光, 2011, 第 2 作者
（28） 极紫外三维小孔矢量衍射波面质量分析, 光学学报, 2010, 通讯作者
（29） Broadband multilayer-coated normal incidence blazed grating with 10 percent diffraction efficiency through the 13-16nm wavelength region, OPTICS LETTERS, 2009, 第 3 作者
（30） 采用多种群遗传算法的全景成像系统非球面设计, 光学精密工程, 2009, 通讯作者
（2） Influence of substrate temperatures on the properties of GdF3 thin films with quarter-wave thickness in the ultraviolet region , Applied Optics, 2015, 第 2 作者
（3） 极紫外光刻物镜分组可视化界面设计优化, 光学学报, 2015, 第 3 作者
（4） 光纤相移点衍射干涉仪关键技术, 红外与激光工程, 2015, 第 2 作者
（5） 极紫外反射镜氧化物保护层的制备与表征, 光学学报, 2015, 通讯作者
（6） ArF 准分子激光对氟化物高反射薄膜的诱导损伤, 激光技术, 2014, 通讯作者
（7） 极紫外光辐照下表面碳沉积污染的计算模型, Simulation Model of Surface Carbon Contamination Under Extreme Unltraviolet Radiaition, 光学学报, 2014, 通讯作者
（8） A model for multilayer analysis in a coated extreme, Optics Communications, 2014, 通讯作者
（9） 极紫外光刻投影物镜中多层膜分析模型的建立及应用, 光学学报, 2014, 通讯作者
（10） 光纤点衍射干涉仪中球面参考源偏振控制系统的设计, 光学学报, 2014, 通讯作者
（11） Optimal design and fabrication method for antireflection coatings for P-polarized 193 nm laser beam at large angles of incidence (68°–74°), JOSA A, 2013, 通讯作者
（12） Fabrication antireflection (AR) coatings for P-polarized 193 nm laser light at an incidence angle of 74°Original Research Article, Optics Communications,, 2013, 通讯作者
（13） 193nm P偏振光大角度减反射膜的实现, Realization of Antireflection Coatings for 193nm P-Polarized Light at Large Angle, 中国激光, 2013, 第 2 作者
（14） 193 nm氟化物薄膜的激光诱导损伤 , Laser Induced Damage of Fluoride Coatings at 193 nm, 中国激光, 2013, 第 2 作者
（15） Analysis and Metrology of Reproducibility of High-Precision Optic Mount, Chinese Journal of Lasers, 2013, 通讯作者
（16） 照明物镜像差对远场衍射波前质量影响的严格矢量分析, 光学学报, 2012, 通讯作者
（17） 极紫外光刻离轴照明技术研究, 光学学报, 2012, 通讯作者
（18） 热蒸发紫外LaF3薄膜光学常数的表征, 中国激光, 2012, 通讯作者
（19） 点衍射干涉仪波前参考源标定算法的研究, 中国激光, 2012, 通讯作者
（20） 可见光移相点衍射干涉仪的测试误差分析, 红外与激光工程, 2012, 通讯作者
（21） 微小孔偏差对远场波前质量影响分析, 光学学报, 2011, 通讯作者
（22） Gain-Phase grating based on spatial modulation of active Raman gain in cold atoms, Physical Review A, 2011, 第 2 作者
（23） 基于掠入射X射线反射谱的mo/si多层膜扩散系数测量, 中国激光, 2011, 第 3 作者
（24） 离子束溅射制备“日盲”紫外透射滤光片, 光学精密工程, 2011, 第 2 作者
（25） 深紫外氧化物薄膜的光学特性, 中国激光, 2011, 通讯作者
（26） “日盲”紫外折反射全景光学系统设计, 光学精密工程, 2011, 第 3 作者
（27） 用于ArF准分子激光器的CaF2衬底性能的实验表征, 中国激光, 2011, 第 2 作者
（28） 极紫外三维小孔矢量衍射波面质量分析, 光学学报, 2010, 通讯作者
（29） Broadband multilayer-coated normal incidence blazed grating with 10 percent diffraction efficiency through the 13-16nm wavelength region, OPTICS LETTERS, 2009, 第 3 作者
（30） 采用多种群遗传算法的全景成像系统非球面设计, 光学精密工程, 2009, 通讯作者
科研活动
科研项目
（ 1 ） 极紫外光刻关键技术研究, 主持, 国家级, 2009-01--2016-05
（ 2 ） EUVL物镜离轴非球面面形检测装置研发, 参与, 国家级, 2012-01--2016-12
（ 3 ） ArF光源光学元件 薄膜元件 研制, 主持, 国家级, 2013-01--2016-12
（ 2 ） EUVL物镜离轴非球面面形检测装置研发, 参与, 国家级, 2012-01--2016-12
（ 3 ） ArF光源光学元件 薄膜元件 研制, 主持, 国家级, 2013-01--2016-12
