080903-微电子学与固体电子学
085208-电子与通信工程

纳米电子材料与器件

1999-03--2002-07   中国科学院上海微系统与信息技术研究所   博士
1996-09--1999-02   浙江大学   硕士学位
1992-09--1996-07   浙江大学   学士学位

   

   

   

2006-01~现在, 中国科学院上海微系统与信息技术研究所, 研究员
2004-07~2005-12,中国科学院上海微系统与信息技术研究所, 副研究员
2004-03~2004-07,香港理工大学, 访问学者
2002-08~2004-06,中国科学院上海微系统与信息技术研究所, 助理研究员
2001-07~2002-07,香港城市大学, 研究助理
1999-03~2002-07,中国科学院上海微系统与信息技术研究所, 博士
1996-09~1999-02,浙江大学, 硕士学位
1992-09~1996-07,浙江大学, 学士学位

2017-08-31-2021-08-31,上海市稀土协会标准化技术委员会, 委员
2016-04-01-今,上海市真空协会真空电子与显示专业委员会, 副主任
2013-04-30-2017-04-30,中国机械工程学会摩擦学分会第一届微纳制造摩擦学专业委员会, 常务委员
2006-11-22-2014-12-31,全国纳米标准化委员会微纳加工工作组副秘书长, 副秘书长
-今,

   

   

（1） 中国科协求是杰出青年成果转化奖, 部委级, 2017
（2） 上海市技术发明一等奖, 一等奖, 省级, 2016
（3） 上海市优秀技术带头人, , 省级, 2014
（4） 第四届上海市五一巾帼创新奖, , 省级, 2011
（5） 第六届“上海市巾帼创新提, , 其他, 2010
（6） 上海市科教系统三八红旗手, , 其他, 2009
（7） 第十届上海市杰出青年岗位, , 其他, 2009
（8） 上海市新长征突击手, , 其他, 2009
（9） 第二届“上海市科教党委系, , 其他, 2008
（10） 上海市青年科技启明星跟踪计划”, , 其他, 2007
（11） 上海市青年科技启明星计划, , 其他, 2004

（ 1 ） 三维立体结构电阻转换存储芯片的制备方法及芯片, 2010, 第 3 作者, 专利号: 201010572456.7
（ 2 ） 一种化学机械抛光液回收和重复利用的方法, 2010, 第 2 作者, 专利号: 201010022997
（ 3 ） 氧化硅－氧化铈核壳复合磨料颗粒及其制备和应用, 2010, 第 2 作者, 专利号: 201010106871
（ 4 ） 三维电阻转换存储芯片制造方法, 2010, 第 3 作者, 专利号: 201010579606.7
（ 5 ） 氧化硅-氧化铈核壳复合磨料颗粒及其制备和应用, 2010, 第 2 作者, 专利号: 201010106871.3
（ 6 ） 一种提高硅衬底化学机械抛光速率的抛光组合物及其应用, 2010, 第 2 作者, 专利号: 201010189172
（ 7 ） 一种提高硅衬底化学机械抛光速率的抛光组合物及其应用, 2010, 第 3 作者, 专利号: 01010189172.X
（ 8 ） 一种高速高密度三维电阻转换存储芯片结构与制备工艺, 2010, 第 3 作者, 专利号: 201010172878.5
（ 9 ） 可控氧化硅去除速率的化学机械抛光液, 2010, 第 4 作者, 专利号: 201010189145.2
（ 10 ） 硫系化合物相变材料抛光后清洗液, 2010, 第 3 作者, 专利号: 201010281508.5
（ 11 ） 一种相变材料抛光后清洗液, 2010, 第 4 作者, 专利号: 201010189161.1
（ 12 ） 相变存储器用化学机械抛光液, 2011, 第 2 作者, 专利号: 201110072199.5
（ 13 ） 一种抑制相变材料电化学腐蚀的抛光液, 2012, 第 2 作者, 专利号: 201110411364.5
（ 14 ） 一种用于硅单晶片抛光的抛光液及其制备与应用, 2011, 第 2 作者, 专利号: 201110228844.8
（ 15 ） 一种改善相变材料抛光后表面质量的抛光液 , 2011, 第 2 作者, 专利号: 201110411337.8
（ 16 ） 一种用于蓝宝石衬底的化学机械抛光液及其应用, 2011, 第 2 作者, 专利号: 201110433696.3
（ 17 ） 一种菱形片状氧化铈的制备方法, 2012, 第 1 作者, 专利号: 200910200963.5
（ 18 ） 一种化学机械抛光液回收和重复利用的方法, 2012, 第 2 作者, 专利号: 201010022997.2
（ 19 ） 一种氧化硅介电材料用化学机械抛光液” 申请号, 2012, 第 2 作者, 专利号: 201210324122.7
（ 20 ） 一种中空纤维高温膜组件的封装结构及中空纤维模组件, 2012, 第 3 作者, 专利号: 201220202064.6
（ 21 ） Al衬底用化学机械抛光液 , 2012, 第 2 作者, 专利号: 201210219203.0
（ 22 ） 一种氧化铝抛光液的制备方法, 2013, 第 2 作者, 专利号: 201310567464.6
（ 23 ） 一种高性能水性无机涂料及其制备方法, 2013, 第 4 作者, 专利号: 201310442795.7
（ 24 ） 一种相变材料化学机械抛光方法, 2013, 第 5 作者, 专利号: 201310462116.2
（ 25 ） 一种相变存储器电极结构的制备方法, 2013, 第 5 作者, 专利号: 201310461919.6
（ 26 ） 一种水溶性聚苯乙烯-二氧化硅核壳型复合颗粒的制备方法, 2013, 第 3 作者, 专利号: 201310442823.5
（ 27 ） 一种二氧化硅介电材料用化学机械抛光液及其制备方法, 2013, 第 4 作者, 专利号: 201310419636.5
（ 28 ） 一种自停止的GST化学机械抛光液及其制备方法和应用, 2013, 第 3 作者, 专利号: 201310447272.1
（ 29 ） 一种低功耗相变存储器结构的制备方法, 2013, 第 5 作者, 专利号: 201310415207.0
（ 30 ） 氧化硅-氧化铈核壳复合磨料颗粒及其制备和应用 , 2013, 第 2 作者, 专利号: 201010106871.3
（ 31 ） 一种提高硅衬底化学机械抛光速率的抛光组合物及其应用, 2013, 第 3 作者, 专利号: 201010189172.X
（ 32 ） 一种蒸汽直通制取硅溶胶的加热方法, 2015, 第 3 作者, 专利号: 201210564282.9
（ 33 ） 一种相变材料化学机械抛光方法, 2015, 第 5 作者, 专利号: 201310462116.2
（ 35 ） 一种自停止的GST化学机械抛光液及其制备方法和应用, 2015, 第 3 作者, 专利号: 201310447272.1
（ 36 ） 一种水溶性聚苯乙烯-二氧化硅核壳型复合颗粒的制备方法, 2015, 第 3 作者, 专利号: 201310442823.5
（ 37 ） 一种相变存储器电极结构的制备方法, 2015, 第 5 作者, 专利号: 201310461919.6
（ 38 ） 一种氧化铝抛光液的制备方法, 2015, 第 2 作者, 专利号: 201310567464.6
（ 39 ） 一种非球形二氧化硅溶胶及其制备方法, 2016, 第 3 作者, 专利号: 201210587490.0
（ 41 ） 一种稳定的改性硅溶胶及其制备方法, 2016, 第 4 作者, 专利号: 201210587486.4
（ 43 ） 一种GST中性化学机械抛光液, 2016, 第 3 作者, 专利号: 201210586914.1
（ 45 ） 一种相变存储器结构及其制备方法, 2016, 第 3 作者, 专利号: 201310673872.x
（ 47 ） 一种包含双氧化剂的GST化学机械抛光液及其制备方法和用途, 2016, 第 2 作者, 专利号: 201410610365.6
（ 53 ） 一种低功耗相变存储器结构的制备方法, 2016, 第 5 作者, 专利号: 201310415207.0
（ 57 ） Polydisperse large-particle-size silica sol and method of preparing the same, 2016, 第 2 作者, 专利号: 15/219,533
（ 58 ） Film-forming silica-sol method of preparing the same and application of the same, 2016, 第 2 作者, 专利号: 15/219,522
（ 59 ） Polydisperse large-particle-size silica sol and method of preparing the same, 2016, 第 2 作者, 专利号: 15/219,533
（ 60 ） 一种改性二氧化硅胶体的制备方法, 2017, 第 2 作者, 专利号: 201410852430.6
（ 61 ） 一种多孔二氧化硅的制备方法及其应用, 2017, 第 2 作者, 专利号: 201410843300.6
（ 62 ） 一种利用废抛光液回收制备水玻璃的方法, 2017, 第 2 作者, 专利号: 201711445044.5
（ 63 ） 一种用于氧化锆陶瓷的化学机械抛光液及其制备方法和用途, 2017, 第 1 作者, 专利号: 201711473665.4
（ 64 ） 一种疏水二氧化硅溶胶的制备方法, 2017, 第 1 作者, 专利号: 201711473611.8
（ 65 ） 一种硅溶胶基磁流变金属抛光液及其制备方法和用途, 2017, 第 3 作者, 专利号: 201711475583.3
（ 66 ） 一种钽酸锂还原片抛光液及其制备方法和用途, 2017, 第 3 作者, 专利号: 201711479667.4

   

（1） Surface energy driven cubic-to-hexagonal grain growth of Ge2Sb2Te5 thin film, scientific reports, 2017, 第 9 作者
（2） preparation of Co-doped silica sol and its application in sapphire (1120) polishing, suface technology, 2017, 第 11 作者
（3） 新型硅基抛光磨料的研究进展, 应用化学, 2017, 第 11 作者
（4） surface modification alumina particles and their chemical mechanical polishing (CMP) behavior on C-plane (0001) sapphire substrate, 无机材料学报, 2017, 第 11 作者
（5） preparation of nano-spherical colloidal silica nanoparticle and its application on the chemical mechanical polishing of sapphire, 武汉理工大学学报-材料科学版, 2017, 第 11 作者
（6） 一种非球形纳米二氧化硅颗粒制备方法研究, 材料导报, 2017, 第 11 作者
（7） Material Removal Mechanism of Ti0.4Sb2Te3 Film during Chemical Mechanical Polishing in Acidic Permanganate-Based Slurry, ECS Journal of Solid State Science and Technology, 2016, 第 11 作者
（8） Fractal nature of non-spherical silica particles via facile synthesis for the abrasive particles in chemical mechanical polishing, Colloids and Surfaces A: Physico chem. Eng. Aspects 500 (2016) 146–153, 2016, 第 11 作者
（9） A nano-scale mirror-like surface of Ti–6Al–4V attained by chemical mechanical polishing, Chin. Phys. B Vol. 25, No. 5 (2016) 058301, 2016, 第 11 作者
（10） Direct observation of metastable face-centered cubic Sb2Te3 crystal, Nano Research 2016, 9(11): 3453–3462, 2016, 第 6 作者
（11） Material Removal Mechanism of Ti0.4Sb2Te3 Film during Chemical Mechanical Polishing in Acidic Permanganate-Based Slurry, ECS Journal of Solid State Science and Technology, 5 (2) P47-P50 (2016), 2016, 第 11 作者
（12） Poly disperse spherical colloidal silica particles: Preparation and application, Chin.Phys.B Vol.25,No.11 (2016) 118202, 2016, 第 11 作者
（13） 核壳型多孔氧化硅制备过程中表面活性剂的浓度调控及作用机理, 硅酸盐通报, 2015, 第 11 作者
（14） The Effect of pH on Sapphire Chemical Mechanical Polishing, ECS Journal of Solid State Science and Technology, 2015, 第 11 作者
（15） Effect of Abrasive Concentration on Chemical Mechanical Polishing of Sapphire, Chinese Physical Letters, 2015, 第 4 作者
（16） Synthesis of colloid silica coated with ceria nano-particles with the assistance of PVP, Chinese Chemical Letters, 2015, 第 11 作者
（17） Role of the Lysine as a Complexing Agent in Ge2Sb2Te5 Chemical Mechanical Polishing Slurries, Electrochimica Acta, 2014, 第 3 作者
（18） Non-spherical colloidal silica particles—Preparation, application and model, Colloids and Surfaces A: Physicochem. Eng. Aspects, 2014, 第 3 作者
（19） Effect of Cations on the Chemical Mechanical Polishing of SiO2 Film, CHINESE PHYSICS LETTERS, 2013, 第 11 作者
（20） Endpoint detection of Ge2Sb2Te5 during chemical mechanical planarization, APLLIED SURFACE SCIENCE , 2013, 第 3 作者
（21） Mechanism of Ge2Sb2Te5 chemical mechanical polishing, Applied Surface Science , 2012, 第 4 作者
（22） Evaluation of hydrogen peroxide on chemical mechanical polishing of amorphous GST, ECS Transactions , 2012, 第 3 作者
（23） Chemical mechanical polishing of stainless steel foil as flexible substrate, Applied Surface Science , 2012, 第 3 作者
（24） Chemical mechanical polishing of using abrasive-free solutions of iron trichloride, Chin. Phys. Lett, 2012, 第 11 作者
（25） Single-crystalline CeOHCO3 with Rhombic Morphology: Synthesis and Thermal Conversion to CeO2., Chinese Journal of Inorganic Chemistry, 2012, 第 11 作者
（26） Effect of Mechanical Process Parameters on Friction Behavior and Material Removal during Sapphire Chemical Mechanical Polishing, Microelectronic Engineering , 2012, 第 11 作者
（27） 一种新型复合磨料对铜的化学机械抛光研究, 信息功能材料学报, 2012, 第 11 作者
（28） Influence of pH and Abrasive Concentration on Polishing Rate of Amorphous Ge2Sb2Te5 Film in Chemical Mechanical Polishing, Journal of Vacuum Science and Technology B , 2011, 第 11 作者
（29） Effect of hydrogen peroxide concentration on surface micro- roughness of silicon wafer after final polishing, Microelectronic Engineering, 2011, 第 11 作者
（30） Preparation of monodisperse polystyrene/silica core-shell nano-composite abrasive with controllable size and its chemical mechanical polishing performance on copper, , Applied Surface Science , 2011, 第 11 作者
（31） . Instability of nitrogen doped Sb2Te3 for phase change memory application, Journal of Applied Physics, 2011, 第 11 作者
（32） Local atomic structure in molten Si3Sb2Te3 phase change material, Solid State Communications, 2011, 第 11 作者
（33） Experimental and theoretical study of silicon-doped Sb2Te3 thin ？lms: Structure and phase stability,  Applied Surface Science, 2011, 第 11 作者
（34） Phase Change Line Memory Cell Based on Ge2Sb2Te5 Fabricated Using Focused Ion Beam, Japanese Journal of Applied Physics, 2011, 第 4 作者
（35） Influence of pH and Abrasive Concentration on Polishing Rate of Amorphous Ge2Sb2Te5 Film in Chemical Mechanical Polishing, Journal of Vacuum Science and Technology B, 2010, 第 11 作者
（36） Single-crystalline CeOHCO3 with Rhombic Morphology: Synthesis and Thermal Conversion to CeO2, Chinese Journal of Inorganic Chemistry , 2010, 第 11 作者
（37） Effect of Ammonium Molybdate Concentration on Chemical Mechanical Polishing of Glass Substrate, Chinese Journal of Semiconductors , 2010, 第 11 作者
（38） Effect of pH and Abrasive Concentration on Chemical Mechanical Polishing of Ge2Sb2Te5, ECS Transactions , 2010, 第 11 作者
（39） Strain relaxation in nano-patterned strained-Si/SiGe heterostructure on insulator, Applied Surface Science , 2010, 第 11 作者
（40） Modified post annealing of the Ge condensation process for better-strained Si material and devices, Journal of Vacuum and Science Technology B , 2010, 第 11 作者
（41） Germanium surface hydrophilicity and low-temperature Ge layer transfer by Ge–SiO2 bonding, Journal of Vacuum and Science Technology B, 2010, 第 11 作者
（42） Strain Stability and Carrier Mobility Enhancement in Strained-Si on Relaxed SiGe-on-Insulator, Journal of The Electrochemical Society, 2010, 第 11 作者
（43） Two-Step Chemical Mechanical Polishing of Sapphire Substrate, Journal of the Electrochemical Society , 2010, 第 11 作者
（44） Surface modification of ceria nanoparticles and their chemical mechanical polishing behavior on glass substrate, Applied Surface Science , 2010, 第 11 作者
（45） Effect of abrasive particle concentration on preliminary chemical mechanical polishing of glass substrate, Microelectronic Engineering , 2010, 第 11 作者
（46） Synthesis, characterization of ceria-coated silica particles and their chemical mechanical polishing performance on glass substrate, Applied Surface Science , 2010, 第 11 作者
（47） Particle size and surfactant effects on chemical mechanical polishing of glass using silica-based slurry, Applied Optics , 2010, 第 11 作者
（48） （49） 

   

   

（ 1 ） 电子级纳米磨料产业化研究及其在IC抛光液中的应用, 主持, 国家级, 2009-01--2011-12
（ 2 ） 45-28nm集成电路用纳米磨料和相变材料抛光液的研究与产业化, 主持, 国家级, 2011-01--2013-12
（ 3 ） 面向LED蓝宝石衬底的抛光液与抛光工艺示范线, 主持, 省级, 2011-12--2014-09
（ 4 ） 上海市优秀技术带头人, 主持, 省级, 2014-07--2017-06
（ 5 ） 纳米电子材料产学研联合实验室能力提升, 主持, 省级, 2016-01--2017-12
（ 6 ） 电子级二氧化硅纳米材料制备新工艺开发及产品应用研究, 主持, 院级, 2015-06--2019-05

（1）硬脆性材料的化学机械抛光研究   2018海峽兩岸暨亞太先進基板研磨加工技術研讨会   刘卫丽   2018-05-30
（2）氧化锆陶瓷的化学机械抛光   2017上海国际先进陶瓷技术研讨会   刘卫丽   2017-06-07
（3）The CMP of sapphire for mobile electronics   Weili Liu   2016-05-24
（4）Chemical Mechanical Polishing Slurry for Amorphous Ge2Sb2Te5   刘卫丽，王良咏，宋志棠   2013-10-30
（5）Overview of CMP Research in China and SIMIT   Liu Weili   2013-05-30
（6）纳米磨料的研究及其在化学机械抛光上的应用   2012 海峡两岸先进基板研磨加工论坛   刘卫丽   2012-09-13
（7）Nano Particles for Chemical Mechanical Planarization   Weili Liu, Lei Zhang , Zhitang Song   2011-11-09
（8）Nano Particles for Chemical Mechanical Planarization   Weili Liu, Zhitang Song   2011-10-31
（9）High Purity Nano Abrasive for Chemical Planarization Application   Weili Liu   2010-01-04