中国科学院 上海光学精密机械研究所 导师邵淑英介绍
作者：科大科院考研网 发表时间：2020-04-12 来源：研招办
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邵淑英 女 硕导 中国科学院上海光学精密机械研究所
电子邮件： shaoshuying@siom.ac.cn
通信地址： 上海市嘉定区清河路390号
邮政编码： 201800
部门/实验室：薄膜
招生信息
招生专业
080502-材料学
070205-凝聚态物理
080502-材料学
070205-凝聚态物理
080502-材料学
招生方向
光学薄膜材料与性能
教育背景
2002-03--2005-03 中科院上海光几所 博士学位
1999-09--2002-03 西北工业大学 硕士
1999-09--2002-03 西北工业大学 硕士
学历
学位
工作经历
工作简历
2008-10~2011-07,中科院上海光机所, 副研究员
2005-03~2008-10,中科院上海光机所, 助研
2002-03~2005-03,中科院上海光几所, 博士学位
1999-09~2002-03,西北工业大学, 硕士
2005-03~2008-10,中科院上海光机所, 助研
2002-03~2005-03,中科院上海光几所, 博士学位
1999-09~2002-03,西北工业大学, 硕士
社会兼职
教授课程
专利与奖励
奖励信息
（1） 军队科技进步二等奖, 部委级, 2012
专利成果
（ 1 ） 一种基于有限元模拟的大口径光学镀膜元件低频面形参数预测方法, 发明, 2016, 第 1 作者, 专利号: 201610318489.6
出版信息
发表论文
（1） A Finite Element Analysis Method of Low Frequency Surface Figure Parameters ofCoating Components, 凝聚态物理学进展, 2016, 第 1 作者
（2） 单斜相HfO2 薄膜弹性常数的第一性原理计算, 光学学报, 2013, 第 2 作者
（3） 高功率激光器光学元件镀膜前后评价参数探讨, 中国激光, 2010, 第 2 作者
（4） Y2O3 stabilized ZrO2 thin films deposited by electron-beam evaporation: Optical properties, structure and residual stresses, Vacuum, 2009, 第 3 作者
（5） 双光束在线实时测量光学薄膜应力的装置, 中国激光, 2009, 通讯作者
（6） 薄膜生长应力演化研究, 光学学报, 2009, 第 2 作者
（7） 氧分压和沉积速率对薄膜残余应力的影响, 中国激光, 2009, 第 2 作者
（8） Influences of Y2O3 dopant content on residual stress, structure, and optical properties of ZrO2 thin f ilms, 中国光学快报, 2009, 第 2 作者
（9） Influences of deposition rate and oxygen partial pressure on residual stress and microstructure of YSZ thin films, Thin Solid Films, 2008, 第 3 作者
（10） 电子束蒸发镀膜速率控制, 中国激光, 2008, 第 4 作者
（11） 沉积温度对氧化钇稳定氧化锆薄膜残余应力的影响, 光学学报, 2008, 第 3 作者
（12） Annealing ef fects on residual stress of HfO2/SiO2 multilayers, 中国光学快报, 2008, 第 4 作者
（13） Stress analysis of ZrO2 /SiO2 multilayers deposited on different substrates with different thickness periods, OPTICS LETTERS, 2005, 第 1 作者
（14） 氧分压对电子束蒸发SiO2薄膜机械性质及光学性质的影响, 光子学报, 2005, 第 1 作者
（15） 沉积参数及时效时间对SiO2薄膜中残余应力的影响, 光学学报, 2005, 第 1 作者
（16） 薄膜应力研究综述, 激光与光电子进展, 2005, 第 1 作者
（17） ZrO2/SiO2多层膜中组合膜厚周期数及基底材料对残余应力的影响, 物理学报, 2005, 第 1 作者
（18） Influences of post-deposition annealing on the properties of ZrO2 thin films prepared by electron beam evaporation, The 5th International conference on Thin Film Physics and Application, 2004, 第 1 作者
（19） ZrO2薄膜残余应力实验研究, 光学学报, 2004, 第 1 作者
（20） 沉积温度对ZrO2薄膜性质的影响, 中国激光, 2004, 第 1 作者
（21） Evolutions of residual stress and microstructure in ZrO2 thin films deposited at different temperatures and rates, Thin Solid Films, 2003, 第 1 作者
（2） 单斜相HfO2 薄膜弹性常数的第一性原理计算, 光学学报, 2013, 第 2 作者
（3） 高功率激光器光学元件镀膜前后评价参数探讨, 中国激光, 2010, 第 2 作者
（4） Y2O3 stabilized ZrO2 thin films deposited by electron-beam evaporation: Optical properties, structure and residual stresses, Vacuum, 2009, 第 3 作者
（5） 双光束在线实时测量光学薄膜应力的装置, 中国激光, 2009, 通讯作者
（6） 薄膜生长应力演化研究, 光学学报, 2009, 第 2 作者
（7） 氧分压和沉积速率对薄膜残余应力的影响, 中国激光, 2009, 第 2 作者
（8） Influences of Y2O3 dopant content on residual stress, structure, and optical properties of ZrO2 thin f ilms, 中国光学快报, 2009, 第 2 作者
（9） Influences of deposition rate and oxygen partial pressure on residual stress and microstructure of YSZ thin films, Thin Solid Films, 2008, 第 3 作者
（10） 电子束蒸发镀膜速率控制, 中国激光, 2008, 第 4 作者
（11） 沉积温度对氧化钇稳定氧化锆薄膜残余应力的影响, 光学学报, 2008, 第 3 作者
（12） Annealing ef fects on residual stress of HfO2/SiO2 multilayers, 中国光学快报, 2008, 第 4 作者
（13） Stress analysis of ZrO2 /SiO2 multilayers deposited on different substrates with different thickness periods, OPTICS LETTERS, 2005, 第 1 作者
（14） 氧分压对电子束蒸发SiO2薄膜机械性质及光学性质的影响, 光子学报, 2005, 第 1 作者
（15） 沉积参数及时效时间对SiO2薄膜中残余应力的影响, 光学学报, 2005, 第 1 作者
（16） 薄膜应力研究综述, 激光与光电子进展, 2005, 第 1 作者
（17） ZrO2/SiO2多层膜中组合膜厚周期数及基底材料对残余应力的影响, 物理学报, 2005, 第 1 作者
（18） Influences of post-deposition annealing on the properties of ZrO2 thin films prepared by electron beam evaporation, The 5th International conference on Thin Film Physics and Application, 2004, 第 1 作者
（19） ZrO2薄膜残余应力实验研究, 光学学报, 2004, 第 1 作者
（20） 沉积温度对ZrO2薄膜性质的影响, 中国激光, 2004, 第 1 作者
（21） Evolutions of residual stress and microstructure in ZrO2 thin films deposited at different temperatures and rates, Thin Solid Films, 2003, 第 1 作者
发表著作
科研活动
科研项目
（ 1 ） 薄膜宏观应力（G08）, 主持, 国家级, 2007-10--2011-02
（ 2 ） AM100919, 参与, 国家级, 2009-01--2014-02
（ 3 ） 193nm薄膜以及135nm薄膜的研制, 参与, 国家级, 2002-12--2005-12
（ 4 ） 偏振膜, 参与, 国家级, 2004-01--2005-12
（ 5 ） A101957-XXXX(A10), 参与, 国家级, 2009-10--2012-02
（ 6 ） 1Z05010806.1-2010HT-C01, 参与, 国家级, 2010-01--2012-02
（ 7 ） 1ZCA10197501, 参与, 国家级, 2010-12--2012-02
（ 8 ） 1ZJPPT-5-115-186601, 参与, 国家级, 2010-12--2013-02
（ 9 ） 激光多层膜光学元件, 参与, 国家级, 2001-01--2005-12
（ 10 ） 介质薄膜(B07), 参与, 国家级, 2007-07--2010-02
（ 11 ） 1ZXXXX01, 参与, 国家级, 2008-07--2010-02
（ 12 ） XXXX081022, 参与, 国家级, 2008-07--2010-02
（ 13 ） 激光薄膜(G09), 参与, 国家级, 2008-11--2012-02
（ 14 ） 强激光材料(CK09), 参与, 部委级, 2009-01--2019-12
（ 2 ） AM100919, 参与, 国家级, 2009-01--2014-02
（ 3 ） 193nm薄膜以及135nm薄膜的研制, 参与, 国家级, 2002-12--2005-12
（ 4 ） 偏振膜, 参与, 国家级, 2004-01--2005-12
（ 5 ） A101957-XXXX(A10), 参与, 国家级, 2009-10--2012-02
（ 6 ） 1Z05010806.1-2010HT-C01, 参与, 国家级, 2010-01--2012-02
（ 7 ） 1ZCA10197501, 参与, 国家级, 2010-12--2012-02
（ 8 ） 1ZJPPT-5-115-186601, 参与, 国家级, 2010-12--2013-02
（ 9 ） 激光多层膜光学元件, 参与, 国家级, 2001-01--2005-12
（ 10 ） 介质薄膜(B07), 参与, 国家级, 2007-07--2010-02
（ 11 ） 1ZXXXX01, 参与, 国家级, 2008-07--2010-02
（ 12 ） XXXX081022, 参与, 国家级, 2008-07--2010-02
（ 13 ） 激光薄膜(G09), 参与, 国家级, 2008-11--2012-02
（ 14 ） 强激光材料(CK09), 参与, 部委级, 2009-01--2019-12
参与会议
（1）Influence of subsurface defects on 355 nm laser damage resistance of monolayer and multilayer coatings Guohang Hu, Shuying Shao, Minghong Yang, Jianda Shao, Yuan’an Zhao, Kui Yi, Zhengxiu Fan 2009-09-19
